INDOZONE.ID - China diam-diam berhasil memproduksi chip 5nm tanpa bantuan mesin litografi ultraviolet ekstrim (EUV) yang selama ini jadi andalan industri semikonduktor.
Kabar ini datang dari Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC) yang berbasis di Shanghai.
Baca Juga: Huawei Mate 80 Siap Bawa Chip Kirin Baru, Performa Lebih Ngebut dan Irit Baterai
Biasanya, teknologi EUV dipakai buat membuat chip 5nm atau lebih kecil, karena mesin ini mampu memproyeksikan pola sirkuit super rumit dengan presisi tinggi.
Tanpa EUV, bikin chip modern jelas lebih ribet dan mahal. Tapi SMIC menemukan jalan lain.
Mereka mengandalkan teknik DUV multi-patterning, metode lama yang disulap jadi inovasi baru buat menembus batasan teknologi.
Baca Juga: TSMC Bisa Kena Denda Miliaran Gara-gara Chip Sampai ke Huawei?
Gagal mendapatkan mesin EUV dari ASML Belanda gara-gara pembatasan ekspor, SMIC nggak mau menyerah.
Mereka putar otak dan maksimalin penggunaan teknologi DUV yang selama ini dianggap kurang mumpuni buat produksi chip sekecil 5nm.
Dengan kombinasi beberapa teknik patterning, SMIC berhasil menciptakan chip sekelas 5nm.
Memang dari segi efisiensi masih kalah dibandingkan produk TSMC atau Samsung yang pakai EUV, tapi langkah ini tetap jadi pencapaian besar, apalagi dalam kondisi serba terbatas.
Baca Juga: Apple Resmi Luncurkan iPad Air dengan Chip M3 dan Magic Keyboard Baru, Secanggih Apa?
Dilarang mengambil dan/atau menayangkan ulang sebagian atau keseluruhan artikel di atas untuk konten akun media sosial komersil tanpa seizin redaksi
Sumber: Gizmochina